Regardez comment une wafer de 300 mm quitte l’appareil de revêtement par centrifugation. Le photo-résistant se trouve là, prêt à être appliqué. Si le processus de séchage n’est pas uniforme, on perd pas seulement une seule wafer : cela affecte également la qualité globale des produits finis et met à rude épreuve les capacités thermiques de tout le système de lithographie. Nous avons conçu notre système IR pour les wafers de 300 mm afin de résoudre ce problème, en assurant une distribution uniforme de la chaleur là où c’est nécessaire.
Ce qui est vraiment important en réalité Nous utilisons des émetteurs infrarouges à ondes courtes pour une transmission rapide et directe de l’énergie. Cela permet d’obtenir une uniformité de température sur toute la surface de la wafer, soit ±0,1 °C. Cette uniformité reste constante au fil des cycles. La plateforme est compatible avec des chambres propres de classe 1–100, et elle fonctionne sans aucun problème lié aux particules, ce qui garantit que la chambre reste propre.
Cela est crucial en lithographie : cela permet de contrôler efficacement les étapes les plus sensibles à la chaleur – comme le séchage doux ou dur, ainsi que le processus de durcissement du photo-résistant. Lorsque l’uniformité est bonne, le contrôle des dimensions critiques reste fiable, et les défauts diminuent. La réponse thermique est rapide, ce qui réduit le temps de traitement.
De plus, les émetteurs sont conçus pour fonctionner pendant plus de 5 000 heures consécutives, ce qui signifie moins de problèmes et moins de temps perdu à gérer les consommables.
Ce qu’il faut prévoir Ce système s’intègre facilement dans les processus existants, mais il nécessite une alimentation électrique et un système de refroidissement distincts. Il faut prévoir une alimentation en 240 V, triphasée, ainsi qu’un système de refroidissement à l’eau déionisée pour maintenir la stabilité thermique sous charge continue.
Les avantages sont simples : un contrôle précis du processus, jour après jour.