리소그래피 공정에서는 포토레지스트 처리실의 온도 변동을 결코 용납할 수 없습니다. 온도 변동은 잔여 물질의 생성, 패턴 손상, 그리고 회복 불가능한 수율 저하를 초래합니다. 따라서 우리는 공정 온도를 일정하게 유지할 수 있도록 특별한 가열 장치를 만들었습니다. 이를 통해 화학 반응이 제대로 진행되고 웨이퍼가 깨끗하게 처리됩니다.
중요한 요소들 이 장치는 석영 창을 통해 단파 할로겐 열을 사용하기 때문에 반응 속도가 빠르고 출력도 안정적입니다. 웨이퍼 전체의 온도 균일성은 ±0.1°C로 유지되며, 반복성도 매우 뛰어나므로 베이킹 과정에서 온도가 변동하지 않습니다. 가열 장치는 클린룸 클래스 1–100에 적합하며, 모든 표면은 입자 생성을 최소화하기 위해 특수 처리된 상태입니다. 실제로 이를 통해 결함이 줄어들고 CD 제어가 더욱 정확해지며, 신뢰할 수 있는 결과를 얻을 수 있습니다. 이 시스템은 24/7으로 작동하며 예기치 않은 다운타임이 없으며, 각 사이클당 열량도 규격 내에 유지됩니다.
실제 포토레지스트 처리에서의 효과 스트립 공정은 소프트 베이크와 하드 베이크가 끝난 후에 이루어집니다. 이 시점에서는 잔여 필름들이 매우 민감한 상태이므로, 과열된 부분이나 저온 지역이 문제를 일으킬 수 있습니다. 우리의 가열 장치는 설정된 온도를 정확하게 유지하여 용매가 고르게 증발하고 폴리머도 깨끗하게 제거됩니다. 또한, 가열 속도가 조절되므로 처리 시간이 단축되고, 가열 장치가 빠르게 작동하여 에너지도 절약됩니다. 그 결과, 공정의 유연성이 높아지고 재작업도 줄어들어 생산 속도가 유지됩니다.
설치 시 주의사항 처리실의 크기와 커넥터 인터페이스를 잘 맞춰야 합니다. 우리는 일반적인 스트립 도구들에 대한 치수 도면과 핀 맵을 제공합니다. 가열 장치는 처리실의 밀폐성이 좋고 가스 흐름이 균형을 이룰 때만 최적의 성능을 발휘합니다. 유지보수 후에는 프로파일을 다시 안정화시키기 위해 짧은 시간 동안 예열이 필요합니다. 통합 과정에서는 지정된 온도 균일성을 유지하기 위해 정확한 정렬이 필요합니다.