팹 내에서는 포토레지스트를 가열할 때 0.5°C만큼의 온도 변동이 있어도 전체 생산량이 폐기될 수 있습니다. 저희는 그러한 불확실성을 없애기 위해 RTP 램프를 개발했습니다. 이 램프는 부드러운 가열, 강력한 가열, 그리고 빠른 열처리 과정에서도 입자 발생 위험 없이 일관된 성능을 제공합니다.
램프는 석영 케이스 안에 단파 할로겐 소자가 들어 있어 에너지 전달이 빠르고 깨끗하며, 스펙트럼도 정밀하게 제어됩니다. 웨이퍼 전체의 온도는 ±0.1°C 수준으로 일정하게 유지되며, 반복성도 매우 높아서 리소그래피 및 박막 형성 과정에서 오차가 발생하지 않습니다.
이 램프는 클린룸 등급 1–100에 맞게 설계되었으며, 하드웨어와 밀봉 구조를 통해 안정적인 작동을 보장합니다. 전력 공급도 안정적이며, 포토레지스트의 민감도에 맞춰 열 처리 과정을 정밀하게 조절할 수 있습니다.
생산 환경에서의 장점 수율과 가동 시간이 가장 중요한 요소입니다. 뛰어난 온도 일관성 덕분에 CD와 두께의 변동이 줄어들어 재작업이나 재검사가 필요 없습니다. 빠른 온도 상승 제어 덕분에 처리 시간도 단축됩니다.
에너지 효율성이 높아서 한 번의 처리당 비용도 줄어들고, 램프의 수명도 길어져 유지보수 횟수도 줄어듭니다. 결국 예측 가능한 성능을 얻을 수 있습니다. 같은 조건에서 항상 일관된 결과가 나옵니다.
주의해야 할 점 설치 시에는 챔버와의 연결 부분을 정확히 맞추고 광학적 정렬을 잘 해야 합니다. 램프는 설치면이 깨끗하고 서늘하며 적절히 보호된 상태에서 가장 좋은 성능을 발휘합니다.
수천 시간 동안 사용하다 보면 출력에 변동이 생길 수 있으므로, 일정한 주기로 교정을 실시하여 온도 일관성을 유지해야 합니다. 24/7으로 가동되는 공장에서는 램프를 그냥 설치해 두는 것이 아니라, 다른 공정과 마찬가지로 체계적으로 관리해야 합니다.