Di fasiliti pengeluaran yang canggih ini, kita tahu betapa cepatnya perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan photoresist boleh merosakkan dimensi penting komponen tersebut, sehingga menyebabkan pembaziran yang besar. Kami telah membina sistem pita haba berkuasa tinggi untuk mengurangkan ketidakpastian tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Platform ini mampu mengekalkan kestabilan suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, menggunakan gelombang inframerah jarak dekat dan sistem pemantauan suhu tertutup untuk memastikan suhu tetap stabil tanpa melebihi had yang ditetapkan. Sistem ini direka khusus untuk bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang tidak menghasilkan gas berlebihan, serta sistem kawalan zarah yang memastikan jumlah zarah di bawah had yang ditetapkan. Profil bahan photoresist kekal konsisten dari satu kitaran ke kitaran yang lain, kerana suhu dikawal dengan tepat – bukan hanya diteka sahaja.
Mengapa ia berkesan dalam proses litografi:
Kestabilan suhu semasa proses pembakaran lembut mempengaruhi proses penyingkiran pelarut dan tekanan pada lapisan filem tersebut. Kekonsistenan proses pembakaran keras pula mempengaruhi daya lekatan dan ketahanan lapisan tersebut terhadap proses pengikisan. Sistem kami memastikan semua langkah tersebut dilaksanakan mengikut spesifikasi yang ditetapkan, sekaligus mengurangkan kerja-kerja pembaikan, meningkatkan kadar pengeluaran, dan mengurangkan pembaziran tenaga. Dengan cara ini, kita dapat mengawal dimensi komponen dengan lebih baik, mengurangkan kecacatan, serta merancang masa penyelenggaraan dengan lebih efektif. Dengan kata lain, kita dapat mencapai kadar pengeluaran yang lebih tinggi tanpa perlu risau tentang perubahan suhu yang tidak dijangka.
Beberapa perkara praktikal yang perlu dipertimbangkan:
Pemasangan sistem ini memerlukan penyesuaian amplitud arus udara dan sistem pengasingan getaran agar sesuai dengan saiz alat yang digunakan. Saluran udara yang tidak sesuai boleh menyebabkan turbulensi aliran udara, yang seterusnya mengganggu kestabilan suhu. Pemanas dalam sistem ini mampu menahan variasi suhu yang berulang-ulang, tetapi dalam keadaan suhu yang tinggi dan kadar pengeluaran yang tinggi, antaramuka pita haba perlu diperiksa secara berkala untuk memastikan integriti lekatan tetap terjaga. Jika semuanya disesuaikan dengan betul, sistem ini akan berfungsi seperti yang diharapkan.