Di bilik proses litografi, kita tidak boleh membiarkan berlakunya perubahan suhu yang drastik di dalam ruang penyimpanan bahan fotoresist. Perubahan suhu ini akan menyebabkan kerosakan pada pola yang terbentuk, dan hasil yang diperoleh tidak akan dapat diperbaiki lagi. Kami telah membina pemanas khusus untuk mengekalkan suhu yang stabil semasa proses berlangsung, agar bahan kimia dapat berfungsi dengan baik dan wafer keluar dalam keadaan bersih.
Apa yang penting dalam sistem ini
Unit ini menggunakan pemanasan berfrekuensi tinggi melalui tingkap kuarsa, jadi tindak balasnya cepat dan keluarannya tetap stabil. Keseimbangan suhu di seluruh permukaan wafer dikekalkan pada tahap ±0.1°C, dan kebolehrulangan proses juga sangat tinggi, sehingga profil pemanasan tetap stabil. Badan pemanas ini sesuai digunakan dalam ruang bersih kelas 1–100, dan setiap permukaannya dirancang untuk mengurangkan penghasilan zarah-zarah kecil. Dengan ini, kecacatan dapat dikurangkan, kawalan ketepatan pola dapat ditingkatkan, dan hasil proses menjadi lebih boleh dipercayai. Sistem ini beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan suhu semasa setiap kitaran tetap berada dalam julat yang ditetapkan.
Mengapa cara ini berkesan dalam proses fotoresist
Langkah pengeluaran bahan fotoresist dilakukan selepas proses pemanasan ringan dan keras. Pada masa ini, lapisan sisa masih rentan terhadap perubahan suhu. Pemanas kami memastikan suhu di dalam ruang tetap stabil, supaya pelarut dapat menguap secara merata dan polimer dapat dibersihkan dengan sempurna. Ini membolehkan masa proses menjadi lebih singkat, dan tenaga dapat dijimatkan kerana pemanas dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat. Dengan ini, peluang untuk melakukan pembaikan berkurangan, dan proses dapat berjalan lancar.
Perkara yang perlu diperhatikan semasa pemasangan
Pastikan dimensi ruang dan antarmuka sambungan sesuai antara satu sama lain. Kami menyediakan gambaran dimensi dan peta pin untuk alat-alat yang digunakan. Pemanas akan berfungsi dengan baik hanya apabila penutup ruang tersebut memadai dan aliran gas seimbang. Selepas penyelenggaraan, diperlukan masa untuk memulihkan suhu yang stabil. Penyetelan alignment semasa integrasi juga perlu dilakukan dengan teliti agar keseimbangan suhu dapat dipertahankan.