Посмотрите, как с поверхности кристала диаметром 300 мм снимается фотополимер. Фотополимер уже готов к использованию — но если процесс высушивания не пройдет одинаково на всей поверхности кристала, это приведет не только к потере одного кристала, но и к снижению общего качества продукции. Мы разработали специальную систему для обработки кристаллов диаметром 300 мм, которая обеспечивает равномерное распределение тепла в нужных местах.
Что действительно важно Мы используем излучатели коротковолнового инфракрасного света для быстрой и эффективной передачи энергии. Это позволяет поддерживать равномерность температуры на всей поверхности кристала в пределах ±0,1°C. Такая система работает стабильно на протяжении множества циклов обработки. Платформа совместима с чистыми комнатами класса 1–100; при ее использовании не возникает никаких проблем с частицами, поэтому в помещении сохраняется чистота.
Это имеет важное значение в процессе литографии: такая система способствует правильной обработке кристаллов, особенно в тех этапах, которые чувствительны к температуре — при мягком и жестком высушивании, а также при затвердевании материала. При высокой степени равномерности температуры контроль критических размеров кристаллов остается точным, а количество дефектов снижается. Быстрая реакция системы на изменения температуры позволяет сократить время обработки.
Кроме того, излучатели рассчитаны на непрерывную работу более 5,000 часов, что значит меньше неожиданностей в процессе производства и меньше времени, затрачиваемого на закупку расходных материалов.
Что необходимо учесть при планировании Эту систему можно легко встроить в существующие производственные процессы, но ей нужны отдельные источники питания и системы охлаждения. Необходимо использовать 240-вольтное трехфазное питание, а также систему охлаждения с использованием деионизированной воды для поддержания тепловой стабильности при постоянной нагрузке.
Результат такого подхода прост: стабильный контроль процесса на протяжении всего времени работы.