Auf dem Produktionsfloor wissen wir, wie schnell eine Abweichung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Fotoresists dazu führen kann, dass kritische Abmessungen beeinträchtigt werden – mit der Folge, dass große Mengen an Produkten unbrauchbar werden. Deshalb haben wir unser Hochtemperatursystem entwickelt, um diese Unsicherheiten auszuschließen.
Was technisch wichtig ist:
Die Plattform gewährleistet eine Konstanz von ±0,1 °C über die gesamte Fläche des Wafer. Dabei wird Infrarotstrahlung im Kurzwellenbereich sowie eine Schleifenkontrolle eingesetzt, um den gewünschten Temperaturwert genau einzuhalten – ohne Überschreitung dieses Wertes. Das System ist für Reinräume der Klasse 1–100 geeignet. Zudem werden Materialien verwendet, die nur wenig Gase abgeben, und es gibt eine Mechanismus zur Kontrolle von Partikeln, damit die Anzahl der Partikel unter einem bestimmten Wert bleibt. Dadurch bleiben die Eigenschaften des Fotoresists von Durchgang zu Durchgang konstant – schließlich wird die Temperatur genau gesteuert, anstatt nur geschätzt.
Warum das System in der Lithografie funktioniert:
Die Temperaturstabilitität während des „Soft-Bake“-Prozesses hat direkt Einfluss auf die Entfernung der Lösungsmittel sowie auf den Spannungszustand des Films. Die Wiederholgenauigkeit beim „Hard-Bake“-Prozess hingegen bestimmt die Haftung des Films sowie seine Widerstandsfähigkeit gegenüber dem Ätzenvorgang. Unser System hält diese Parameter innerhalb der vorgegebenen Grenzen – dadurch wird die Anzahl der Nacharbeiten reduziert, die Ausbeute verbessert und der Energieverbrauch minimiert. Dadurch entsteht eine bessere Kontrolle über die Abmessungen der Produkte, weniger Defekte sowie planbare Wartungsintervalle. Mit anderen Worten: Höhere Produktivität – ohne dass man sich mit Abweichungen auseinandersetzen muss.
Ein paar praktische Hinweise:
Bei der Installation muss die Leistung der Absauganlagen sowie die Vibrationssicherung an die Abmessungen des Geräts angepasst werden. Ungenau abgestimmte Abluftleitungen können zu Störungen im Luftstrom führen, was wiederum die Konstanz beeinträchtigt. Der Heizer kann wiederholte thermische Prozesse bewältigen – doch unter hohen Temperaturen und hoher Produktivität muss die Verbindung zwischen dem Heizer und dem Film regelmäßig überprüft werden, um die Haftung des Films aufrechtzuerhalten. Wenn das System entsprechend den Anforderungen des Produktionsprozesses eingestellt wird, funktioniert es wie vorgesehen.