Beobachten Sie, wie ein 300-mm-Wafer aus dem Spin-Coater herauskommt. Der Fotolack befindet sich bereits auf dem Wafer und ist bereit zur Verarbeitung – doch wenn die Erhitzung nicht gleichmäßig erfolgt, geht nicht nur ein Wafer verloren. Zudem wird die Gesamtleistung der Lithografieanlage beeinträchtigt. Wir haben unser IR-System für 300-mm-Wafer entwickelt, um dieses Problem zu lösen – dadurch wird die Wärme genau dort abgegeben, wo sie benötigt wird.
Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler, um eine schnelle, direkte Energieübertragung zu ermöglichen. Dadurch bleibt die Temperatur auf der gesamten Oberfläche des Wafer bei ±0,1°C konstant – und das auch über mehrere Prozessschritte hinweg. Die Anlage ist außerdem kompatibel mit Reinräumen der Klasse 1–100. Zudem entstehen keine Staubpartikel, sodass der Raum stets sauber bleibt.
Das ist in der Lithografie besonders wichtig: Dadurch werden die Schritte, die am empfindlichsten auf Wärme reagieren – wie zum Beispiel die Weich- und Hartbäckung sowie die Aushärtung – unterstützt. Wenn die Temperaturkonstanz hoch ist, bleibt auch die Kontrolle der kritischen Abmessungen stabil, und Defekte werden vermieden. Die thermische Reaktion ist zudem schnell, wodurch die Prozesszeit reduziert wird.
Die Strahler sind außerdem so konzipiert, dass sie mehr als 5.000 Stunden lang ununterbrochen arbeiten können. Dadurch gibt es weniger Überraschungen im Betrieb – und weniger Zeit muss für den Ersatz von Verbrauchsmitteln aufgewendet werden.
Was Sie berücksichtigen müssen
Die Anlage passt problemlos in die bestehenden Prozessabläufe ein – doch sie benötigt eigene Strom- und Kühlmittelversorgung. Planen Sie daher eine 240-Volt-, dreiphasige Stromversorgung sowie eine Kühlung mit deionisiertem Wasser, um die thermische Stabilität bei konstanter Belastung zu gewährleisten.
Der Vorteil ist klar: Eine wiederholbare Prozesskontrolle – Tag für Tag.