Eindeutige Wärme für 300 mm Wafer IR

Thu, 18 Jun 2026 00:44:19 +0800

Beobachten Sie, wie ein 300-mm-Wafer aus dem Spin-Coater herauskommt. Der Fotolack befindet sich bereits auf dem Wafer und ist bereit zur Verarbeitung – doch wenn die Erhitzung nicht gleichmäßig erfolgt, geht nicht nur ein Wafer verloren. Zudem wird die Gesamtleistung der Lithografieanlage beeinträchtigt. Wir haben unser IR-System für 300-mm-Wafer entwickelt, um dieses Problem zu lösen – dadurch wird die Wärme genau dort abgegeben, wo sie benötigt wird.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler, um eine schnelle, direkte Energieübertragung zu ermöglichen. Dadurch bleibt die Temperatur auf der gesamten Oberfläche des Wafer bei ±0,1°C konstant – und das auch über mehrere Prozessschritte hinweg. Die Anlage ist außerdem kompatibel mit Reinräumen der Klasse 1–100. Zudem entstehen keine Staubpartikel, sodass der Raum stets sauber bleibt.

300 Mm on Industrial Quartz Heating Systems

Eindeutige Wärme für 300 mm Wafer IR