Herstellung von Hochtemperatur Klebeband

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

Auf dem Produktionsfloor wissen wir, wie schnell eine Abweichung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Fotoresists dazu führen kann, dass kritische Abmessungen beeinträchtigt werden – mit der Folge, dass große Mengen an Produkten unbrauchbar werden. Deshalb haben wir unser Hochtemperatursystem entwickelt, um diese Unsicherheiten auszuschließen.

Was technisch wichtig ist:
Die Plattform gewährleistet eine Konstanz von ±0,1 °C über die gesamte Fläche des Wafer. Dabei wird Infrarotstrahlung im Kurzwellenbereich sowie eine Schleifenkontrolle eingesetzt, um den gewünschten Temperaturwert genau einzuhalten – ohne Überschreitung dieses Wertes. Das System ist für Reinräume der Klasse 1–100 geeignet. Zudem werden Materialien verwendet, die nur wenig Gase abgeben, und es gibt eine Mechanismus zur Kontrolle von Partikeln, damit die Anzahl der Partikel unter einem bestimmten Wert bleibt. Dadurch bleiben die Eigenschaften des Fotoresists von Durchgang zu Durchgang konstant – schließlich wird die Temperatur genau gesteuert, anstatt nur geschätzt.

Band on Industrial Quartz Heating Systems

Herstellung von Hochtemperatur Klebeband