Heizung zur Unterstützung des Entfernens des Photoresists

Tue, 30 Jun 2026 01:12:17 +0800

In der Lithografieanlage darf es keine thermischen Schwankungen in der Kammer für den Photoresist geben. Temperaturunterschiede führen zu Defekten im Muster sowie zu einem Produktionsverlust, den man nicht mehr ausgleichen kann. Wir haben einen Heizer entwickelt, der die Prozesstemperatur konstant hält – damit die chemischen Reaktionen ordnungsgemäß ablaufen und die Wafer sauber bleiben.

Was wirklich wichtig ist
Die Anlage nutzt Halogenheizung mit Kurzwellenlicht durch ein Quarzfenster – dadurch ist die Reaktionszeit kurz und die Leistung konstant. Die thermische Homogenität auf der Oberfläche der Wafer wird auf ±0,1°C gehalten, und die Reproduzierbarkeit bleibt hoch, sodass sich die Verhältnisse während des Prozesses nicht ändern. Der Heizer ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet, und alle Oberflächen sind so verarbeitet, dass eine geringe Partikelbildung entsteht. In der Praxis bedeutet das weniger Defekte, bessere Kontrolle über die Eigenschaften des Photoresists sowie zuverlässige Ergebnisse. Das System läuft 24/7 ohne unplanmäßige Stillstände, und das thermische Budget pro Zyklus bleibt innerhalb der Spezifikationen.

Fotoresist on Industrial Quartz Heating Systems

Heizung zur Unterstützung des Entfernens des Photoresists