Industrie Wafer Trocknungssystem Heizer

Fri, 05 Jun 2026 01:03:51 +0800

Auf dem Fertigungsboden ist thermischer Drift während des Wafertrocknens das eine, was sich eine Lithografiezelle einfach nicht leisten kann. Selbst wenige Grad Nicht-Uniformität auf der Photoresist-Oberfläche führen zu Überlagerungsfehlern und schlagen sich direkt in den Ertrag nieder. Wir haben unsere industriellen Wafertrocknungsheizgeräte so entwickelt, dass diese Variable nicht mehr auf dem Tisch liegt.

Infrarot-Präzision: Sub-Millimeter-Kontrolle, auf die Sie sich verlassen können

Wir setzen kurzwellige Infrarotstrahler durch einen konstruierten optischen Strang ein, um das thermische Feld mit sub-millimetergenauer räumlicher Kontrolle zu formen. Der Vorteil ist eine Temperaturuniformität auf Wafer-Ebene innerhalb von ±0,1 °C über das Prozessfenster und eine Wiederholbarkeit, die Schicht für Schicht und Los für Los stabil bleibt.
Soft-Bake- und Hard-Bake-Profile bleiben stabil, die CD-Kontrolle wird enger, und das thermische Budget bleibt innerhalb der Spezifikationen. Über 5.000+ Stunden bleibt der Output konstant mit weniger als 5 % Intensitätsdrift, und das System ist darauf ausgelegt, 24/7 ohne ungeplante Ausfallzeiten zu laufen.

Industriell on Industrial Quartz Heating Systems

Industrie Wafer Trocknungssystem Heizer

Infrarot-Präzision: Sub-Millimeter-Kontrolle, auf die Sie sich verlassen können