Observe cómo una oblea de 300 mm sale del dispositivo de recubrimiento. El fotopolímero está listo para ser procesado; pero si el proceso de secado no es uniforme, no solo se pierde una oblea, sino que también disminuye la eficiencia general del proceso de litografía. Construimos nuestro sistema de infrarrojos para obleas de 300 mm con el fin de solucionar este problema, logrando así una distribución uniforme del calor en el lugar adecuado.
Lo que realmente importa
Utilizamos emisores de infrarrojos de onda corta para una transferencia rápida y directa de energía. Esto permite mantener una temperatura uniforme en toda la superficie de la oblea, con un margen de error de ±0.1°C. La plataforma es compatible con salas limpias de clase 1–100, y funciona sin producir partículas extrañas, lo que mantiene la cámara limpia.
Esto es importante en el proceso de litografía, ya que permite controlar mejor los pasos más sensibles al calor: el secado suave, el secado duro y el curado del material. Cuando la uniformidad es alta, el control de las dimensiones críticas también es preciso, y los defectos disminuyen. La respuesta térmica es rápida, lo que reduce el tiempo de ciclo.
Además, los emisores están diseñados para funcionar durante más de 5,000 horas seguidas, lo que significa menos sorpresas y menos tiempo dedicado al reemplazo de consumibles.
Lo que debe tener en cuenta
Este sistema puede integrarse fácilmente en los procesos existentes, pero necesita su propio suministro de energía y sistema de enfriamiento. Se recomienda utilizar una alimentación de 240 V, de tres fases, además de agua desionizada para mantener la estabilidad térmica bajo carga continua.
La ventaja es clara: un control de procesos reproducible, día tras día.