Fábrica de cinta térmica de alta temperatura

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

En el área de producción, como saben, un cambio de temperatura de 0,5°C durante el proceso de secado del fotorresisto puede arruinar las dimensiones críticas del producto y causar la pérdida de grandes cantidades de material. Por eso, hemos desarrollado nuestro sistema de cinta térmica para altas temperaturas, con el objetivo de eliminar esa incertidumbre.

Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico La plataforma logra mantener una uniformidad de temperatura de ±0,1°C en toda la superficie del wafer, utilizando infrarrojo de onda corta y pirometría de bucle cerrado para controlar con precisión la temperatura deseada, sin que se supere dicha temperatura. Está diseñado para salas limpias de clase 1–100, utilizando materiales con baja emisión de gases y una estructura de control de partículas que mantiene los niveles de partículas por debajo del umbral establecido, tanto durante el secado suave como durante el secado intenso. Los perfiles del fotorresisto se mantienen constantes ciclo tras ciclo, ya que el presupuesto térmico se controla de forma precisa, en lugar de ser estimado.

Térmico on Industrial Quartz Heating Systems

Fábrica de cinta térmica de alta temperatura