Sensor de temperatura para herramienta de obleas

Mon, 27 Jul 2026 16:08:13 +0800

Calentamiento por IR vs. aire caliente: ¿Por qué su equipo para el procesamiento de obleas es lento?
Si todavía utiliza circulación de aire caliente para el procesamiento profundo de semiconductores, probablemente esté perdiendo mucho tiempo esperando a que todo esté listo.
El aire caliente se basa en la convección: es necesario calentar toda la cámara, cada centímetro cúbico de aire, antes de que la oblea misma comience a calentarse. Es un proceso lento. Hay una gran demora que afecta negativamente su productividad.
Se trata del tiempo.
El calor por IR funciona de manera diferente. No se preocupa por el aire; simplemente envía energía radiante directamente hacia la oblea. Es rápido… realmente rápido.
En lugar de esperar a que el ventilador mueva el aire caliente, los fotones actúan directamente sobre el material, lo que acelera el proceso. Los tiempos de inicio y finalización del proceso disminuyen drásticamente. Al eliminar esa demora, su productividad aumenta significativamente.
Además, se obtiene un mejor control del proceso.
Con el aire caliente, siempre hay que preocuparse por los “puntos fríos” causados por bolsas de aire o turbulencias. Es un problema. Con los sistemas de calor por IR, podemos controlar mejor la distribución del calor. Basta con ajustar la disposición de las lámparas para compensar las pérdidas de calor en los bordes, y así se logra una distribución uniforme del calor.
Pero aquí está el problema: no se puede ser descuidado con el hardware.
Dado que el calor por IR actúa muy rápidamente, se necesita un sensor de alta velocidad y un sistema PID preciso. Si el sensor es lento, se podrá sobrecalentar la oblea antes de que el sistema se dé cuenta de que debe detener el proceso.
Es un compromiso que hay que tener en cuenta.
El calor por IR es muy eficaz, pero solo calienta aquello que puede “ver”.
Si su equipo tiene estructuras complejas o formas tridimensionales, encontrará problemas relacionados con la distribución del calor. No basta con colocar una lámpara de IR en un equipo antiguo basado en convección. Hay que rediseñar todo el sistema para garantizar que haya una línea de visión clara hacia el sustrato.

Fábrica de cinta térmica de alta temperatura

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

En el área de producción, como saben, un cambio de temperatura de 0,5°C durante el proceso de secado del fotorresisto puede arruinar las dimensiones críticas del producto y causar la pérdida de grandes cantidades de material. Por eso, hemos desarrollado nuestro sistema de cinta térmica para altas temperaturas, con el objetivo de eliminar esa incertidumbre.

Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico La plataforma logra mantener una uniformidad de temperatura de ±0,1°C en toda la superficie del wafer, utilizando infrarrojo de onda corta y pirometría de bucle cerrado para controlar con precisión la temperatura deseada, sin que se supere dicha temperatura. Está diseñado para salas limpias de clase 1–100, utilizando materiales con baja emisión de gases y una estructura de control de partículas que mantiene los niveles de partículas por debajo del umbral establecido, tanto durante el secado suave como durante el secado intenso. Los perfiles del fotorresisto se mantienen constantes ciclo tras ciclo, ya que el presupuesto térmico se controla de forma precisa, en lugar de ser estimado.

Temperatura on Industrial Quartz Heating Systems

Sensor de temperatura para herramienta de obleas

Fábrica de cinta térmica de alta temperatura