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		<title>300 Mm on Industrial Quartz Heating Systems</title>
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				<title>Chaleur uniforme pour wafer IR de 300 mm</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-qz-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Chaleur uniforme pour wafer IR de 300 mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Regardez comment une wafer de 300 mm quitte l’appareil de revêtement par centrifugation. Le photo-résistant se trouve là, prêt à être appliqué. Si le processus de séchage n’est pas uniforme, on perd pas seulement une seule wafer : cela affecte également la qualité globale des produits finis et met à rude épreuve les capacités thermiques de tout le système de lithographie. Nous avons conçu notre système IR pour les wafers de 300 mm afin de résoudre ce problème, en assurant une distribution uniforme de la chaleur là où c’est nécessaire.&lt;/p&gt;</description>
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