Système de chauffage pour le séchage de wafers industriels

Fri, 05 Jun 2026 01:03:51 +0800

Sur le sol de fabrication, la dérive thermique lors du séchage des plaquettes est la seule chose qu’une cellule de lithographie ne peut tout simplement pas se permettre. Même quelques degrés de non-uniformité à la surface du photoresist se traduiront par des erreurs de superposition et affecteront directement le rendement. Nous avons conçu nos chauffages industriels pour le séchage des plaquettes afin d’éliminer cette variable.

Précision infrarouge : Contrôle sub-millimétrique sur lequel vous pouvez compter

Nous faisons passer des émetteurs infrarouges à onde courte à travers un train optique conçu pour façonner le champ thermique avec un contrôle spatial sub-millimétrique. Le résultat est une uniformité de température au niveau de la plaquette dans une plage de ±0,1°C à travers la fenêtre de traitement, et une répétabilité qui se maintient d’équipe à équipe, de lot à lot. Les profils de cuisson douce et de cuisson dure restent stables, le contrôle de CD se resserre, et le budget thermique reste dans les spécifications. Sur plus de 5 000 heures, la sortie reste stable avec moins de 5 % de dérive d’intensité, et le système est conçu pour fonctionner 24/7 sans temps d’arrêt imprévu.

Système on Industrial Quartz Heating Systems

Système de chauffage pour le séchage de wafers industriels

Précision infrarouge : Contrôle sub-millimétrique sur lequel vous pouvez compter