Capteur de température pour outil de wafer

Mon, 27 Jul 2026 16:08:13 +0800

Chauffage par rayonnement infrarouge vs. air chaud : pourquoi vos outils de traitement de wafers sont-ils lents ?
Si vous utilisez encore la circulation d’air chaud pour le traitement approfondi des semi-conducteurs, vous perdez probablement beaucoup de temps à attendre.
L’air chaud fonctionne grâce à la convection : il faut chauffer toute la chambre – chaque centimètre cube d’air – avant même que le wafer ne commence à se réchauffer. C’est un processus lent. Ce délai supplémentaire nuit considérablement à l’efficacité du travail.
Il s’agit avant tout de temps.
Le chauffage par rayonnement infrarouge fonctionne différemment. Il ne s’occupe pas de l’air ; il dirige simplement l’énergie rayonnante directement vers le wafer. C’est rapide, vraiment très rapide. Au lieu d’attendre que le ventilateur fasse circuler l’air chaud, les photons frappent directement le matériau, ce qui permet une réaction immédiate. Les temps de mise en marche et d’arrêt diminuent considérablement. En éliminant ce délai, votre productivité augmente. De plus, vous avez un meilleur contrôle sur le processus de chauffage.
Avec l’air chaud, il faut toujours se soucier des « zones froides » causées par des bulles d’air ou des turbulences. C’est problématique. Avec les systèmes de chauffage par rayonnement infrarouge, on peut contrôler précisément où se trouve la chaleur. Il suffit d’ajuster l’emplacement des lampes afin de compenser les pertes de chaleur aux bords. Ainsi, l’uniformité de la chaleur est assurée.
Mais attention : il ne faut pas être négligent avec l’équipement utilisé. Comme le chauffage par Rayonnement infrarouge agit très rapidement, il faut utiliser des capteurs à haute vitesse et un système PID très precise. Si le capteur est lent, vous risquez de dépasser la température souhaitée et de endommager le wafer avant même que le système ne comprenne qu’il doit arrêter l’alimentation en énergie.
C’est un compromis dont vous devez tenir compte.
Le chauffage par rayonnement infrarouge est très efficace, mais il est directionnel : il ne chauffe que ce qu’il peut « voir ». Si votre outil présente des formes complexes ou des creux profonds, vous rencontrerez des problèmes liés à l’ombre. Vous ne pouvez pas simplement installer une lampe infrarouge dans un ancien outil à convection et penser que c’est suffisant. Il faudra repenser toute la configuration de l’outil pour assurer une ligne de vue claire vers le substrat.

Fabrique de ruban thermique à haute température

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

Dans les usines de fabrication de films photosensibles, on sait à quel point une déviation de 0,5 °C pendant le processus de cuisson du film photosensible peut avoir des conséquences graves pour les dimensions critiques des produits finis, entraînant ainsi l’abandon de grandes quantités de produits non conformes. Nous avons donc conçu notre système de bande thermique à haute température afin d’éliminer cette incertitude.

Ce qui est important sur le plan technique : La plateforme permet de maintenir une uniformité de ±0,1 °C sur toute la surface de la puce, en utilisant des rayons infrarouges à courte longueur d’onde et une pyrométrie en boucle fermée pour atteindre précisément la température souhaitée, sans excès. Ce système est conçu pour être utilisé dans des salles propres de classe 1–100, avec des matériaux ayant un faible taux d’émission de gaz, ainsi qu’une architecture de contrôle des particules qui permet de garder leur nombre en deçà du seuil autorisé, grâce à des processus de cuisson doux ou intensifs. Les profils des films photosensibles restent répétables, cycle après cycle, car le budget thermique est vraiment contrôlé – et non estimé approximativement.

Température on Industrial Quartz Heating Systems

Capteur de température pour outil de wafer

Fabrique de ruban thermique à haute température