IR on Industrial Quartz Heating Systems

Sensor IR berpresisi untuk wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:31:54 +0800

Hentikan lampu IR yang merusak wafer Anda
Dalam proses produksi semikonduktor skala besar, rusaknya lampu bukanlah hal yang sepele. Hal tersebut merupakan bencana yang serius. Ketika lapisan kaca pembungkus lampu pecah, potongan-potongan kaca dan logam akan jatuh tepat di atas wafer tersebut. Itu merupakan situasi yang sangat berbahaya. Itulah mengapa kami merancang sensor IR dan lampu pemanas dengan cara tertentu.

Mengendalikan kekacauan yang mungkin terjadi
Kami menggunakan kaca kuarsa sintetis berkualitas tinggi sebagai bahan pembungkus lampu. Mengapa? Karena kaca ini mampu bertahan meski mengalami perubahan suhu yang drastis tanpa retak. Namun, kami tidak berhenti sampai di situ saja. Kami juga menambahkan lapisan pelindung atau koating khusus. Lapisan ini berfungsi sebagai “jaring pengaman”. Jika filamen lampu rusak, lapisan pelindung ini akan menahan serpihan-serpihan tersebut agar tidak menyentuh wafer. Dengan begitu, wafer tetap bersih. Sangat sederhana.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Thu, 23 Jul 2026 09:12:32 +0800

Hentikan Pemborosan Energi: Kebenaran tentang Reflektor Aluminium
Di pabrik cerdas, panas umumnya dianggap sebagai masalah yang mengganggu. Namun, jika dilihat dari sudut pandang yang berbeda, sebenarnya panas merupakan alat yang berguna. Masalahnya adalah sebagian besar energi tersebut malah terbuang sia-sia ke dalam rangka mesin, tanpa memberikan manfaat apa-apa. Di sinilah peran reflektor aluminium. Reflektor ini berfungsi seperti cermin yang memantulkan radiasi inframerah kembali ke benda kerja.

Yang terbaik dari hal ini adalah Anda dapat memperoleh fluks panas yang lebih tinggi, tanpa perlu meningkatkan daya suplai atau arus listrik yang digunakan. Ini merupakan cara yang lebih efisien.

Suhu yang seragam untuk wafer berukuran 300 mm menggunakan teknik IR.

Thu, 18 Jun 2026 00:44:19 +0800

Lihatlah bagaimana wafer berukuran 300 mm keluar dari alat pelapis tersebut. Lapisan fotoresistnya sudah siap untuk diproses selanjutnya. Jika proses pemanasan tidak dilakukan secara merata, maka bukan hanya satu wafer yang akan gagal diproses, tetapi kualitas produk secara keseluruhan juga akan menurun. Sistem IR yang kami gunakan untuk wafer berukuran 300 mm ini dirancang untuk mengatasi masalah tersebut, sehingga panas dapat disalurkan secara merata ke bagian-bagian yang membutuhkannya.

Apa yang benar-benar penting di balik semuanya ini? Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah untuk mentransfer energi secara cepat dan tepat. Hal ini memungkinkan suhu permukaan wafer tetap stabil, yaitu dalam rentang ±0,1°C di seluruh permukaan wafer berukuran 300 mm. Teknologi ini juga bertahan lama, bahkan setelah banyak siklus pemrosesan. Platform ini kompatibel dengan ruang kerja bersih kelas 1–100, dan tidak ada partikel debu yang masuk ke dalam ruangan tersebut, sehingga kondisi ruangan tetap bersih.