Suhu on Industrial Quartz Heating Systems

Sensor suhu untuk alat pemrosesan wafer

Mon, 27 Jul 2026 16:08:15 +0800

Pemanasan IR vs. Udara Panas: Mengapa Alat Pengolahan Wafer Anda Berjalan Lambat

Jika Anda masih menggunakan sistem pemanasan udara panas untuk proses pengolahan semikonduktor yang kompleks, kemungkinan besar Anda akan menghabiskan banyak waktu hanya untuk menunggu.

Pemanasan udara panas bekerja berdasarkan prinsip konveksi. Anda perlu memanaskan seluruh ruang di dalam chamber tersebut—setiap inci kubik udara—sebelum wafer mulai memanas. Proses ini sangat lambat. Waktu tunggu yang lama ini tentu saja akan menghambat efisiensi kerja Anda.

Yang penting adalah waktu.
Sedangkan pemanasan IR bekerja secara berbeda. Sistem ini tidak perlu memanaskan udara; energi radiasi langsung ditujukan ke wafer. Prosesnya sangat cepat. Anda tidak perlu menunggu angin untuk mendorong udara panas ke sekitar wafer. Foton-foton langsung bereaksi dengan material wafer, sehingga proses pengolahan berlangsung lebih cepat. Waktu yang diperlukan untuk memulai dan menghentikan proses pengolahan pun menjadi sangat singkat. Dengan demikian, kapasitas produksi Anda akan meningkat.

Pabrik pita termal suhu tinggi

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

Di area produksi yang menggunakan teknologi fotorezist ini, kita tahu betapa cepatnya perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotorezist dapat merusak dimensi-dimensi penting dari bahan tersebut, sehingga menyebabkan pemborosan bahan yang banyak. Kami membangun sistem pemanas berkekuatan tinggi ini untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut.

Yang penting dari segi teknis: Platform ini mampu menjaga kestabilan suhu pada kisaran ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Hal ini dicapai dengan menggunakan gelombang inframerah pendek dan sistem pengukuran suhu berbasis loop tertutup, sehingga suhu dapat dikontrol dengan presisi tanpa melebihi batas yang ditentukan. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang memiliki emisi gas rendah, serta sistem kontrol partikel yang efektif agar jumlah partikel tetap berada di bawah ambang batas, baik selama proses pemanasan ringan maupun berat. Profil fotorezist tetap konsisten dari siklus ke siklus, karena suhu dialokasikan secara tepat—bukan sekadar diperkirakan saja.

Suhu yang seragam untuk wafer berukuran 300 mm menggunakan teknik IR.

Thu, 18 Jun 2026 00:44:19 +0800

Lihatlah bagaimana wafer berukuran 300 mm keluar dari alat pelapis tersebut. Lapisan fotoresistnya sudah siap untuk diproses selanjutnya. Jika proses pemanasan tidak dilakukan secara merata, maka bukan hanya satu wafer yang akan gagal diproses, tetapi kualitas produk secara keseluruhan juga akan menurun. Sistem IR yang kami gunakan untuk wafer berukuran 300 mm ini dirancang untuk mengatasi masalah tersebut, sehingga panas dapat disalurkan secara merata ke bagian-bagian yang membutuhkannya.

Apa yang benar-benar penting di balik semuanya ini? Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah untuk mentransfer energi secara cepat dan tepat. Hal ini memungkinkan suhu permukaan wafer tetap stabil, yaitu dalam rentang ±0,1°C di seluruh permukaan wafer berukuran 300 mm. Teknologi ini juga bertahan lama, bahkan setelah banyak siklus pemrosesan. Platform ini kompatibel dengan ruang kerja bersih kelas 1–100, dan tidak ada partikel debu yang masuk ke dalam ruangan tersebut, sehingga kondisi ruangan tetap bersih.