Osservate come una wafer da 300 mm esca dal dispositivo di deposizione del fotorest. Il fotorest è pronto per essere utilizzato… ma se il processo di essiccazione non avviene in modo uniforme, non si perde soltanto una singola wafer: ne risentono anche tutti i cicli di produzione, e il bilancio termico dell’intero sistema di litografia ne risente negativamente. Abbiamo progettato il nostro sistema IR per wafer da 300 mm proprio per risolvere questo problema, garantendo una distribuzione uniforme del calore esattamente dove è necessario.
Cosa è davvero importante nel funzionamento del sistema
Utilizziamo emettitori a raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda per una trasferimento rapido ed efficiente dell’energia. Questo permette una uniformità della temperatura sulla superficie della wafer di ±0,1°C su tutta la superficie di 300 mm, e tale uniformità persiste ciclo dopo ciclo. La piattaforma è compatibile con ambienti puliti di tipo Class 1–100; inoltre, non genera particelle, quindi la camera di lavoro rimane sempre pulita.
Questo è fondamentale nella litografia: permette di mantenere sotto controllo i passaggi più sensibili al calore, come l’essiccazione del fotorest e i processi di cura. Quando l’uniformità della temperatura è elevata, il controllo delle dimensioni critiche della wafer è preciso, e i difetti diminuiscono. Inoltre, la risposta termica è rapida, il che riduce i tempi di ciclo.
Gli emettitori sono progettati per funzionare per oltre 5.000 ore di seguito, il che significa meno problemi durante il funzionamento e meno tempo speso a sostituire i componenti.
Cosa bisogna pianificare
Il sistema può essere integrato facilmente nei processi esistenti, ma richiede comunque una propria alimentazione elettrica e un sistema di raffreddamento. È necessario un alimentazione a 240V, in tre fasi, oltre a acqua deionizzata per mantenere la stabilità termica sotto carichi continui.
I vantaggi sono evidenti: un controllo preciso dei processi, giorno dopo giorno.