Riscaldatore di supporto per lo strappaggio del fotorestista

Tue, 30 Jun 2026 01:12:17 +0800

Nella fase di litografia, non si può permettere alcuna variazione di temperatura all’interno della camera in cui avviene il trattamento del fotorest. Tali variazioni possono causare danni al pattern ottenuto, oltre a ridurre la qualità del prodotto finito. Per questo motivo abbiamo progettato un riscaldatore in grado di mantenere costante la temperatura richiesta durante il processo: così, i reagenti chimici possono svolgere correttamente il loro lavoro e il wafer risulterà pulito.

Cosa è importante sotto il profilo tecnico
L’apparecchiatura utilizza un sistema di riscaldamento ad onde corte a base di halogeni, attraverso una finestra in quarzo; ciò permette una risposta rapida e una stabilizzazione della temperatura. La uniformità termica su tutta la superficie del wafer viene mantenuta entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità dei risultati è molto elevata, così da evitare qualsiasi variazione durante i cicli di trattamento. Il corpo del riscaldatore è compatibile con ambienti puliti di classe 1–100; inoltre, tutte le superfici sono trattate in modo da ridurre al minimo la formazione di particelle. In pratica, ciò significa meno difetti, un controllo più preciso delle dimensioni del wafer e risultati affidabili. Il sistema funziona 24/7, senza interruzioni impreviste, e il consumo energetico rimane entro i limiti previsti.

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