Fabbrica di nastro termico ad alta temperatura

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

Nelle linee di produzione, sappiamo quanto sia rapido il cambiamento di temperatura di 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotoresisto: questo può compromettere le dimensioni critiche dei componenti prodotti, causando quindi la perdita di grandi quantità di prodotto finito. Abbiamo creato il nostro sistema di nastri termici ad alta temperatura proprio per eliminare questa incertezza.

Cosa è importante, dal punto di vista tecnico
La piattaforma garantisce una uniformità della temperatura di ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, grazie all’uso di radiazioni infrarosse a breve lunghezza d’onda e di sistemi di misurazione a circuito chiuso. È progettata per essere utilizzata in ambienti puliti di classe 1–100; inoltre, utilizza materiali con bassa emissione di gas e sistemi di controllo delle particelle che mantengono i valori al di sotto dei limiti consentiti, sia durante i processi di essiccazione leggeri che intensivi. I parametri del fotoresisto rimangono costanti, ciclo dopo ciclo, poiché il bilancio termico viene effettivamente controllato, senza dover fare stime approssimative.

Termico on Industrial Quartz Heating Systems

Fabbrica di nastro termico ad alta temperatura