Calore uniforme per wafer da 300 mm IR

Thu, 18 Jun 2026 00:44:19 +0800

Osservate come una wafer da 300 mm esca dal dispositivo di deposizione del fotorest. Il fotorest è pronto per essere utilizzato… ma se il processo di essiccazione non avviene in modo uniforme, non si perde soltanto una singola wafer: ne risentono anche tutti i cicli di produzione, e il bilancio termico dell’intero sistema di litografia ne risente negativamente. Abbiamo progettato il nostro sistema IR per wafer da 300 mm proprio per risolvere questo problema, garantendo una distribuzione uniforme del calore esattamente dove è necessario.

Uniforme on Industrial Quartz Heating Systems

Calore uniforme per wafer da 300 mm IR