Tontonlah bagaimana wafer berukuran 300mm dikeluarkan daripada alat pengelasan tersebut. Lapisan fotoresist masih berada di situ, bersedia untuk digunakan. Jika proses pemanasan tidak dilakukan secara seragam, bukan sahaja satu wafer yang akan rosak, tetapi juga kualiti keseluruhan produk akan terjejas. Kami telah mencipta sistem IR khusus untuk wafer 300mm ini, agar suhu dapat dikawal dengan tepat di kawasan yang diperlukan.
Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan pengeluarkan sinar inframerah berfrekuensi rendah untuk memindahkan tenaga dengan cepat dan efektif. Ini memastikan suhu permukaan wafer kekal seragam pada tahap ±0.1°C secara keseluruhan, dan ia kekal stabil dari satu kitaran ke kitaran yang lain. Sistem ini juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan ia beroperasi tanpa sebarang masalah berkaitan zarah-zarah debu, sekaligus menjadikan bilik tersebut tetap bersih.
Inilah sebabnya mengapa hal ini sangat penting dalam proses litografi: ia membantu memastikan langkah-langkah yang sensitif terhadap suhu dapat dilaksanakan dengan baik – seperti proses pemanasan lembut, pemanasan keras, dan proses pengerasan. Dengan suhu yang seragam, kawalan dimensi kritikal dapat dilakukan dengan lebih baik, dan kecacatan akibat suhu yang tidak stabil dapat dikurangkan. Respons termal yang cepat juga membolehkan masa kitaran menjadi lebih singkat.
Pengeluarkan sinar inframerah ini direka untuk beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa henti. Ini bermakna tiada masalah yang timbul semasa penggunaannya, dan masa yang diperlukan untuk mengganti komponen juga berkurangan.
Apa yang perlu dirancang
Sistem ini boleh digunakan bersama-sama dengan proses-proses sedia ada, namun ia memerlukan sumber kuasa dan sistem penyejukan yang sesuai. Anda perlu merancang penggunaan bekalan kuasa 240V, tiga fasa, serta air penyejuk yang bersih untuk mengekalkan kestabilan suhu semasa operasi berterusan.
Kelebihannya adalah kawalan proses yang konsisten, hari demi hari.