Pemanas probe untuk pengukuran elipsometri pada wafer

Fri, 03 Jul 2026 02:36:54 +0800

Di bilik proses pembuatan cip, data yang diperoleh daripada alat ellipsometri hanya berguna sekiranya suhu probe tersebut stabil. Sebarang perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses “soft bake” atau “hard bake” akan menyebabkan perubahan ketebalan lapisan fotoresist dan nilai CD. Ini seterusnya akan mengakibatkan wafer tidak dapat digunakan lagi. Kami telah mencipta pemanas khusus untuk probe ellipsometri agar dapat berfungsi dengan toleransi sifar terhadap perubahan suhu tersebut; kestabilan suhu pada tahap wafer kekal pada ±0.1°C, supaya bacaan yang diperoleh mencerminkan proses sebenar, bukannya perubahan suhu.

Elipsometri on Industrial Quartz Heating Systems

Pemanas probe untuk pengukuran elipsometri pada wafer