<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Sokongan on Industrial Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://industrial-qz-heater.com/ms/tags/sokongan/</link>
		<description>Recent content in Sokongan on Industrial Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 01:12:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://industrial-qz-heater.com/ms/tags/sokongan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk membantu proses pengelupasan lapisan photoresist</title>
				<link>http://industrial-qz-heater.com/ms/posts/photoresist-stripping-support-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 01:12:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://industrial-qz-heater.com/ms/posts/photoresist-stripping-support-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://industrial-qz-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk membantu proses pengelupasan lapisan photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;bilik&lt;/a&gt; proses litografi, kita tidak boleh &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;membiarkan&lt;/a&gt; berlakunya &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;perubahan&lt;/a&gt; suhu yang drastik di dalam ruang penyimpanan bahan fotoresist. Perubahan suhu ini akan menyebabkan kerosakan pada pola yang terbentuk, dan hasil yang diperoleh tidak akan dapat diperbaiki lagi. Kami telah membina pemanas khusus untuk mengekalkan suhu yang stabil semasa proses berlangsung, agar bahan kimia dapat berfungsi dengan baik dan wafer keluar dalam keadaan bersih.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Unit ini menggunakan pemanasan berfrekuensi tinggi melalui tingkap kuarsa, jadi tindak balasnya cepat dan keluarannya tetap stabil. Keseimbangan suhu di seluruh permukaan wafer dikekalkan pada tahap ±0.1°C, dan kebolehrulangan proses juga sangat tinggi, sehingga profil pemanasan tetap stabil. Badan pemanas ini sesuai digunakan dalam ruang bersih kelas 1–100, dan setiap permukaannya dirancang untuk mengurangkan penghasilan zarah-zarah kecil. Dengan ini, kecacatan dapat dikurangkan, kawalan ketepatan pola dapat ditingkatkan, dan hasil proses menjadi lebih boleh dipercayai. Sistem ini beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan suhu semasa setiap kitaran tetap berada dalam julat yang ditetapkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
