Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Mon, 27 Jul 2026 16:08:16 +0800

Pemanasan IR berbanding Udara Panas: Mengapa Alat Pemprosesan Wafer Anda Berjalan Perlahan

Jika anda masih menggunakan kaedah udara panas untuk pemprosesan semikonduktor, kemungkinan besar anda membuang terlalu banyak masa untuk menunggu.

Udara panas bergantung pada proses konveksi. Anda perlu memanaskan seluruh ruang di dalam bilik pemprosesan—setiap inci padu udara—sebelum wafer itu sendiri mula menjadi panas. Proses ini sangat lambat. Waktu yang dibazirkan akibatnya sangat banyak.

Semua ini berkaitan dengan masa.

Pemanasan IR pula berfungsi secara berbeza. Ia tidak memerlukan penggunaan udara; ia hanya menghantar tenaga radiasi secara langsung ke wafer tersebut. Prosesnya sangat cepat.

Kertas pelekat termal untuk suhu tinggi

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

Di fasiliti pengeluaran yang canggih ini, kita tahu betapa cepatnya perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan photoresist boleh merosakkan dimensi penting komponen tersebut, sehingga menyebabkan pembaziran yang besar. Kami telah membina sistem pita haba berkuasa tinggi untuk mengurangkan ketidakpastian tersebut.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Platform ini mampu mengekalkan kestabilan suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, menggunakan gelombang inframerah jarak dekat dan sistem pemantauan suhu tertutup untuk memastikan suhu tetap stabil tanpa melebihi had yang ditetapkan. Sistem ini direka khusus untuk bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang tidak menghasilkan gas berlebihan, serta sistem kawalan zarah yang memastikan jumlah zarah di bawah had yang ditetapkan. Profil bahan photoresist kekal konsisten dari satu kitaran ke kitaran yang lain, kerana suhu dikawal dengan tepat – bukan hanya diteka sahaja.

Suhu on Industrial Quartz Heating Systems

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Pemanasan IR berbanding Udara Panas: Mengapa Alat Pemprosesan Wafer Anda Berjalan Perlahan

Kertas pelekat termal untuk suhu tinggi