Kijk hoe een 300mm-grote wafer uit de spincoater komt. De fotoresist zit er nog op, klaar om te worden gebruikt. Als de verhitting niet gelijkmatig is, raak je niet alleen één wafer kwijt. Ook daalt de productiviteit en neemt de thermische belasting voor het hele lithografieproces toe. We hebben ons IR-systeem voor 300mm-wafers ontworpen om dit probleem op te lossen: het zorgt voor een gelijkmatige warmtestroom precies waar dat nodig is.
Wat er echt toe doet We gebruiken infrarode stralers met korte golflengten voor een snelle en directe overdracht van energie. Hierdoor blijft de temperatuur op het oppervlak van de wafer constant, met een verschil van ±0,1°C over het hele oppervlak van 300mm. Dit werkt elke keer weer goed. Het systeem is compatibel met schone ruimtes van klasse 1–100. Er zijn geen deeltjes die kunnen veroorzaken dat de kamers vies worden.
Dit is belangrijk in de lithografie: het ondersteunt de stappen die gevoelig zijn voor hitte – zoals zachte en harde verhittingen en het drogen van de fotoresist. Wanneer de temperatuur constant blijft, blijft ook de controle over de afmetingen van de wafer consistent en dalen de fouten. De thermische respons is snel, waardoor de tijd die nodig is voor het proces verkort wordt.
De stralers kunnen meer dan 5.000 uur achter elkaar werken, waardoor er minder problemen optreden en er minder tijd nodig is om consumptiegoederen aan te vullen.
Wat je moet plannen Het systeem kan gemakkelijk worden geïntegreerd in bestaande productieprocessen. Echter, het heeft wel zijn eigen stroomoplaad en koelwater nodig. Plan op een 240V, driefasige stroomtoevoer, plus gedemineraliseerd water voor koeling, zodat de thermische stabiliteit behouden blijft onder constante belasting.
Het voordeel is duidelijk: herhaalbare procescontrole, dag in, dag uit.