Verhitter voor het verwijderen van photoresist

Tue, 30 Jun 2026 01:12:17 +0800

Op de lithografieafdeling kan men zich geen thermische afwijkingen in de kamer waarin de fotoresist wordt verwerkt, veroorloven. Temperatuursverschillen kunnen leiden tot residuen, schade aan het patroon en een productiekwaliteit die niet meer kan worden hersteld. We hebben een heater ontworpen die de procestemperatuur nauwkeurig vasthoudt, zodat de chemische reacties op de juiste manier plaatsvinden en de wafer schoon blijft.

Wat belangrijk is onder de motorkap Het apparaat maakt gebruik van kortegolfhalogeenverwarming via een kwartsglasraam. Hierdoor is de respons snel en blijft de uitgangstemperatuur constant. Over de hele oppervlakte van de wafer wordt de thermische uniformiteit op ±0,1°C gehouden. De herhaalbaarheid blijft ook constant, zodat de temperatuur niet wijzigt na elke cyclus. Het behuizing van de heater is compatibel met cleanrooms van klasse 1–100. Alle oppervlakken zijn zo behandeld dat er zo min mogelijk deeltjes worden geproduceerd. In praktijk betekent dit minder defecten, een betere controle over de precisie en resultaten die betrouwbaar zijn. Het systeem werkt 24/7 zonder onverwachte stilstanden, en de thermische parameters blijven binnen de vereisten.

Fotoreductor on Industrial Quartz Heating Systems

Verhitter voor het verwijderen van photoresist