Een gelijkmatige hitte voor een 300mm wafer IR

Thu, 18 Jun 2026 00:44:19 +0800

Kijk hoe een 300mm-grote wafer uit de spincoater komt. De fotoresist zit er nog op, klaar om te worden gebruikt. Als de verhitting niet gelijkmatig is, raak je niet alleen één wafer kwijt. Ook daalt de productiviteit en neemt de thermische belasting voor het hele lithografieproces toe. We hebben ons IR-systeem voor 300mm-wafers ontworpen om dit probleem op te lossen: het zorgt voor een gelijkmatige warmtestroom precies waar dat nodig is.

Wat er echt toe doet We gebruiken infrarode stralers met korte golflengten voor een snelle en directe overdracht van energie. Hierdoor blijft de temperatuur op het oppervlak van de wafer constant, met een verschil van ±0,1°C over het hele oppervlak van 300mm. Dit werkt elke keer weer goed. Het systeem is compatibel met schone ruimtes van klasse 1–100. Er zijn geen deeltjes die kunnen veroorzaken dat de kamers vies worden.

Hitte on Industrial Quartz Heating Systems

Een gelijkmatige hitte voor een 300mm wafer IR