Industriële waferdroog systeem verwarmingselement

Fri, 05 Jun 2026 01:03:51 +0800

Op de fabrieksvloer is thermische drift tijdens het drogen van wafers het ene ding dat een lithografiecel zich simpelweg niet kan veroorloven. Zelfs een paar graden ongelijkheid over het oppervlak van het fotopolymeer zal zich manifesteren als overlay-fouten en rechtstreeks invloed hebben op de opbrengst. We hebben onze industriële waferdroogverwarmers ontworpen om die variabele van de tafel te halen.

Infrarode Precisie: Sub-Millimeter Controle Waar Je Op Kunt Vertrouwen

We gebruiken kortgolvige infraroodemitters door een geoptimaliseerde optische trein om het thermische veld te vormen met sub-millimeter ruimtelijke controle. Het resultaat is temperatuuruniformiteit op waferniveau binnen ±0.1°C over het procesvenster, en herhaalbaarheid die standhoudt van shift naar shift, lot naar lot.
De soft bake- en hard bake-profielen blijven stabiel, de CD-controle verscherpt, en het thermische budget blijft binnen de specificaties. Gedurende meer dan 5,000+ uur blijft de output constant met minder dan 5% intensiteitsdrift, en het systeem is ontworpen om 24/7 te draaien zonder ongeplande stilstand.

Systeem on Industrial Quartz Heating Systems

Industriële waferdroog systeem verwarmingselement

Infrarode Precisie: Sub-Millimeter Controle Waar Je Op Kunt Vertrouwen