Ellipsometrische wafer probeverwarmer

Fri, 03 Jul 2026 02:36:54 +0800

Op de productielijn heeft het ellipsometriedata alleen waarde als de temperatuur van de sonde precies bekend is. Een verschil van 1°C tijdens het zachte of harde bakproces kan ertoe leiden dat de dikte van de fotorezist en de CD-waarde veranderen. Hierdoor kan de wafer beschadigd raken. We hebben een heater ontwikkeld die werkt met nul tolerantie voor dit soort afwijkingen: de uniformiteit op het niveau van de wafer blijft bij ±0,1°C. Op deze manier kan de meting worden gebruikt om de processen te monitoren, in plaats van de temperatuurschommelingen.

Wafer drogen infrarood verwarmingselement

Mon, 01 Jun 2026 17:30:32 +0800

Op de lithografievloer komt een wafer net uit het reinigingsbad, doorweekt en nat. Als de IR-droger het tempo niet kan bijhouden, ontstaan er watermerken, hecht de fotoresist niet goed en komt de productielijn tot stilstand. We hebben onze infraroodwarmers voor waferdroging ontworpen om dit falen te voorkomen voordat het begint.
Wat er onder de motorkap gebeurt
We gebruiken kortgolvige infrarood quartz-emittors, waardoor de energie direct en snel de wafer bereikt en de ondergrond koel blijft. De thermische uniformiteit op wafer-niveau bedraagt binnen ±0,1°C over het procesvenster, wat ervoor zorgt dat de soft bake- en hard bake-profielen precies op hun plek blijven. De output blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uren met minder dan 5% intensiteitsafwijking, zodat de reproduceerbaarheid in de loop van de tijd niet afneemt. Het verwarmingsmodule functioneert probleemloos in Class 1–100 cleanrooms en is ontworpen om nul deeltjes te genereren—bevestigd door deeltjesmonitoring direct op de gebruikslocatie.
Waarom dit in de praktijk werkt
Bij waferdroging is temperatuurregeling bepalend voor het thermisch budget. Onze IR-warmers leveren een constante en reproduceerbare warmte, waardoor wafers snel drogen, het aantal carry-over defecten afneemt en de doorvoer stijgt zonder piek in het energieverbruik. U ziet snellere cyclustijden, minder afgekeurde batches en minder onderhoud, omdat de emittors een lange levensduur hebben en het thermisch profiel stabiel blijft. Het ontwerp is een gevalideerd equivalent aan internationale normen voor halfgeleiderapparatuur en kan daarom als verwisselbare, gevalideerde optie in bestaande platformen worden geïntegreerd.
Wat u vooraf moet weten
De installatie komt neer op het afstemmen van de mechanische interface en besturingssignalen van het gereedschap—meestal 24 V logica en afgeschermde bekabeling om EMI te voorkomen. De verwarming bereikt de volledige temperatuur binnen enkele seconden, dus de procescontroller moet worden afgestemd om overshoot tijdens het opwarmen en receptovergangen te voorkomen. In ruimtes met hoge luchtvochtigheid moet lokale condensatie worden beheerd; het venster van de emitter moet schoon blijven om een stabiele IR-transmissie te waarborgen.

Wafer on Industrial Quartz Heating Systems

Ellipsometrische wafer probeverwarmer

Wafer drogen infrarood verwarmingselement