Aquecedor de suporte para remoção do fotoresist

Tue, 30 Jun 2026 01:12:17 +0800

Na área de litografia, não se pode permitir que haja variações térmicas na câmara onde o fotoresisto é tratado. Essas variações resultam em resíduos, danos ao padrão formado e em perdas que não podem ser recuperadas. Por isso, desenvolvemos um aquecedor especial para manter a temperatura constante durante o processo – assim, a química responsável pelo tratamento do fotoresisto funciona corretamente, e o wafer sai limpo.

O que é importante por trás disso tudo
A unidade utiliza aquecimento por halógenos de onda curta, através de uma janela de quartzo. Isso garante uma resposta rápida e uma temperatura estável. A uniformidade térmica ao longo do wafer é mantida em ±0,1°C, e a repetibilidade entre diferentes ciclos é alta, evitando assim variações no processo. O corpo do aquecedor é compatível com salas limpas de classe 1–100, e todas as superfícies são tratadas para minimizar a geração de partículas. Na prática, isso significa menos defeitos, controle mais preciso da espessura do filme formado e resultados confiáveis. O sistema funciona 24/7, sem paradas não planejadas, e o consumo energético por ciclo fica dentro dos padrões estabelecidos.

Fotopolímero on Industrial Quartz Heating Systems

Aquecedor de suporte para remoção do fotoresist