Система нагрева для сушки промышленных ваферов

Fri, 05 Jun 2026 01:03:51 +0800

На производственном этаже термическое смещение во время сушки подложек — это то, что литографическая ячейка просто не может себе позволить. Даже несколько градусов неравномерности на поверхности фотоresist проявятся в ошибках наложения и напрямую повлияют на выход. Мы разработали наши промышленные нагреватели для сушки подложек, чтобы исключить эту переменную.

Инфракрасная точность: контроль субмиллиметрового уровня, на который можно положиться

Мы пропускаем инфракрасные излучатели коротковолнового диапазона через специализированную оптическую систему, чтобы сформировать тепловое поле с субмиллиметровым пространственным контролем. Результат — равномерность температуры на уровне подложки в пределах ±0.1°C по всему процессу, а также повторяемость, которая сохраняется от смены к смене, от партии к партии. Профили мягкой и твердой сушки остаются стабильными, контроль CD становится более строгим, а тепловой бюджет остается в пределах спецификаций. На протяжении более 5,000 часов выход остается стабильным с отклонением интенсивности менее 5%, а система спроектирована для работы 24/7 без незапланированных простоев.

Система on Industrial Quartz Heating Systems

Система нагрева для сушки промышленных ваферов

Инфракрасная точность: контроль субмиллиметрового уровня, на который можно положиться