Nhiệt Độ on Industrial Quartz Heating Systems

Cảm biến nhiệt độ dùng cho thiết bị xử lý wafer

Mon, 27 Jul 2026 16:08:14 +0800

Sự khác biệt giữa việc sử dụng nhiệt độ từ bức xạ hồng ngoại và không khí nóng: Tại sao công cụ xử lý wafer lại chạy chậm?
Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng để xử lý các linh kiện bán dẫn, có lẽ bạn đang lãng phí quá nhiều thời gian vào việc chờ đợi.

Phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng hoạt động dựa trên nguyên lý đối lưu. Bạn cần làm nóng toàn bộ không gian bên trong buồng xử lý – mỗi inch khối không khí – trước khi wafer bắt đầu được làm nóng. Đây là một quá trình tốn nhiều thời gian. Thời gian chờ đợi này sẽ ảnh hưởng tiêu cực đến hiệu suất công việc của bạn.

Dây dính nhiệt cho nhiệt độ cao

Tue, 23 Jun 2026 12:35:56 +0800

Trong quy trình sản xuất, bạn biết đấy, chỉ cần nhiệt độ tăng thêm 0,5°C trong quá trình sấy phim photoresist cũng có thể khiến các kích thước quan trọng của sản phẩm bị ảnh hưởng nghiêm trọng, dẫn đến lãng phí rất nhiều nguyên vật liệu. Chúng tôi đã chế tạo hệ thống dùng băng dính chịu nhiệt cao để loại bỏ yếu tố không chắc chắn này.

Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật: Hệ thống này giúp duy trì độ ổn định nhiệt độ ở mức ±0,1°C trên toàn bộ bề mặt wafer, nhờ việc sử dụng tia hồng ngoại tần số thấp cùng công nghệ đo nhiệt độ theo vòng lặp khép kín. Hệ thống này được thiết kế để hoạt động trong các phòng sạch loại 1–100, với các vật liệu ít tỏa khí và cơ chế kiểm soát hạt nhỏ giúp giữ số lượng hạt dưới mức cho phép, thông qua quá trình sấy mềm và sấy cứng. Các thông số liên quan đến phim photoresist luôn ổn định từ lần này sang lần khác, vì nhiệt độ được kiểm soát chính xác – chứ không phải dự đoán mò.

Nhiệt độ đồng đều cho wafer kích thước 300mm công nghệ IR

Thu, 18 Jun 2026 00:44:19 +0800

Hãy xem cách mà những tấm wafer kích thước 300mm được lấy ra khỏi máy phủ chất bảo vệ bề mặt. Chất bảo vệ này vẫn còn ở trên bề mặt wafer, sẵn sàng được xử lý tiếp theo. Nếu quá trình làm nóng không đồng đều, không chỉ một tấm wafer bị hỏng mà hiệu suất sản xuất tổng thể cũng bị ảnh hưởng. Chúng tôi đã thiết kế hệ thống chiếu tử ngoại dành cho wafer kích thước 300mm để khắc phục vấn đề này, giúp truyền nhiệt một cách đồng đều đến vị trí cần thiết.