Mengeringkan Wafer MEMS menggunakan Inframerah: Cara yang Paling Efektif
Ketika membuat sensor MEMS, perkara terakhir yang diinginkan ialah adanya titik kelembapan atau kotoran akibat bahan pelarut yang boleh merosakkan struktur mikro tersebut. Ia merupakan proses yang memerlukan keseimbangan yang tepat. Wafer perlu dikeringkan sepenuhnya, tetapi kita tidak boleh menggunakan haba secara berlebihan.
Itulah sebabnya kita menggunakan pemanas inframerah berfrekuensi rendah. Berbeza dengan cara pengeringan menggunakan udara panas atau bahan kimia, inframerah menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer. Cara ini lebih efektif dan bersih.
Bagaimana ia berfungsi?
Bayangkan sebuah ketuhar konvensional. Ia perlu memanaskan udara terlebih dahulu, dan kemudian udara itu akan memanaskan makanan. Ini membuang banyak masa. Inframerah pula berbeza. Ia menyerang molekul air pada permukaan wafer secara langsung. Tenaga tersebut menyebabkan air di permukaan wafer cepat menguap. Wafer akan menjadi kering dalam masa beberapa saat sahaja.
Kelebihan utamanya ialah proses pengeringan yang sangat cepat. Wafer tidak perlu direndam dalam haba untuk jangka masa yang lama. Ini bermakna kita tidak perlu risau tentang wafer yang menjadi bengkok atau bahan tambahan yang berpindah ke tempat yang tidak sepatutnya.
Lebih baik untuk alam sekitar (dan paru-paru kita)
Industri ini semakin beralih daripada penggunaan bahan pelebur berbasis plumbum serta bahan pelarut berbahaya. Penggunaan inframerah merupakan penyelesaian yang ideal. Ia merupakan proses pengeringan yang “kering”. Kita tidak perlu risau tentang gas-gas berbahaya yang keluar dari sistem ekzos, dan tiada komponen pemanasan yang berbahaya. Cukup sambungkan alat ini ke bekalan kuasa, tetapkan frekuensi gelombang yang sesuai, dan semuanya akan berjalan lancar. Selain itu, kerana tidak perlu menggunakan kipas besar untuk mengalirkan udara panas, tenaga tidak akan terbuang akibat kebocoran udara.
Kekurangan
Namun, ia bukanlah penyelesaian yang sempurna. Tekanan haba yang tinggi mempunyai beberapa kelemahan. Jika suhu dinaikkan terlalu cepat, ia boleh menyebabkan kesan termal yang buruk. Kita perlu berhati-hati dalam mengawal suhu menggunakan pengawal PID. Jika tidak, suhu boleh melebihi had yang ditetapkan, dan ini boleh merosakkan wafer tersebut.
Selain itu, kerana intensiti cahaya inframerah yang tinggi, kita perlu memastikan bahawa komponen pemanas dilindungi dengan baik. Kita tidak mahu para pekerja terdedah kepada radiasi tersebut.
Kami telah mereka bentuk pemanas ini agar mudah digunakan sebagai pengganti sistem pemanasan lama yang rumit. Ia membolehkan ruang yang digunakan lebih kecil, dan kos operasi juga lebih rendah. Ini merupakan cara yang efektif untuk mencapai standard hijau tanpa melambatkan proses pengeluaran.