Lihatlah bagaimana wafer berukuran 300 mm keluar dari alat pelapis tersebut. Lapisan fotoresistnya sudah siap untuk diproses selanjutnya. Jika proses pemanasan tidak dilakukan secara merata, maka bukan hanya satu wafer yang akan gagal diproses, tetapi kualitas produk secara keseluruhan juga akan menurun. Sistem IR yang kami gunakan untuk wafer berukuran 300 mm ini dirancang untuk mengatasi masalah tersebut, sehingga panas dapat disalurkan secara merata ke bagian-bagian yang membutuhkannya.
Apa yang benar-benar penting di balik semuanya ini? Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah untuk mentransfer energi secara cepat dan tepat. Hal ini memungkinkan suhu permukaan wafer tetap stabil, yaitu dalam rentang ±0,1°C di seluruh permukaan wafer berukuran 300 mm. Teknologi ini juga bertahan lama, bahkan setelah banyak siklus pemrosesan. Platform ini kompatibel dengan ruang kerja bersih kelas 1–100, dan tidak ada partikel debu yang masuk ke dalam ruangan tersebut, sehingga kondisi ruangan tetap bersih.
Alasan mengapa hal ini penting dalam proses litografi adalah karena hal ini mendukung langkah-langkah pemrosesan yang sangat sensitif terhadap suhu, seperti proses pemanasan ringan, pemanasan intensif, dan proses pengeringan. Dengan tingkat keseragaman suhu yang tinggi, kontrol dimensi kritis wafer pun menjadi lebih baik, sehingga cacat pada wafer berkurang. Respons termalnya juga cepat, sehingga waktu pemrosesan pun berkurang.
Pemancar-pemancar ini dirancang untuk dapat beroperasi selama lebih dari 5.000 jam secara terus-menerus. Dengan demikian, tidak akan ada masalah yang muncul selama proses berlangsung, dan waktu yang diperlukan untuk mengganti komponen-komponen tertentu pun berkurang.
Apa yang perlu Anda persiapkan? Sistem ini dapat digabungkan dengan proses-proses yang sudah ada, tetapi membutuhkan pasokan listrik dan sistem pendingin tersendiri. Anda perlu mempersiapkan sumber listrik berkekuatan 240V, tiga fasa, serta sistem pendingin berupa air deionisasi agar stabilitas termal tetap terjaga meski beban kerja tinggi.
Manfaatnya sangat jelas: kontrol proses yang konsisten, setiap hari.