300 mm’lik wafersin spin koaterdan nasıl çıktığını izleyin. Fotoresist orada, kullanıma hazır halde duruyor. Eğer ısıtma işlemi eşit olmazsa, sadece bir waferi kaybetmekle kalmazsınız; aynı zamanda tüm litografik süreçler üzerinde olumsuz etkiler oluşur. Bu sorunu çözmek için 300 mm’lik wafere özel bir IR sistemi geliştirdik; böylece ısıyı tam da ihtiyaç duyulan yere iletebiliyoruz.
Aslında önemli olan şey nedir? Hızlı ve doğrudan enerji transferi sağlamak için kısa dalga boylu kızılötesi vericiler kullanıyoruz. Bu sayede 300 mm’lik yüzeyin tamamında sıcaklık kontrolü ±0,1°C düzeyinde sağlanıyor ve bu durum her döngüde devam ediyor. Bu sistem, Class 1–100 temiz odalarla uyumludur ve parçacık üretmez; böylece oda temiz kalır.
Bu durumun litografi süreçlerinde neden önemli olduğunu şöyle açıklayabiliriz: Isıya en duyarlı adımlar olan yumuşak ısıtma, sert ısıtma ve kurutma işlemlerini doğrudan destekler. Eğer sıcaklık kontrolü iyi olursa, kritik boyutlar sabit kalır ve kusurlar azalır. Ayrıca termal tepki hızlı olduğu için işlem süresi de kısalır.
Vericiler ise 5.000 saatten fazla süre boyunca kesintisiz çalışabilecek şekilde tasarlanmıştır; bu da fabrikada daha az sorun yaşanmasını ve sarf malzemelerle ilgili zaman kaybının azalmasını sağlar.
Planlamanız gerekenler nelerdir? Bu sistem mevcut işlem hatlarına sorunsuz bir şekilde entegre edilebilir; ancak kendi güç kaynağına ve soğutma sistemine ihtiyaç duyar. Sürekli yük altında termal stabiliteyi korumak için 240V, üç fazlı bir güç kaynağı ve deiyonize su ile soğutma sistemi gereklidir.
Sonuç olarak, gün içinde tekrarlanabilir bir işlem kontrolü elde edilir.