Hãy xem cách mà những tấm wafer kích thước 300mm được lấy ra khỏi máy phủ chất bảo vệ bề mặt. Chất bảo vệ này vẫn còn ở trên bề mặt wafer, sẵn sàng được xử lý tiếp theo. Nếu quá trình làm nóng không đồng đều, không chỉ một tấm wafer bị hỏng mà hiệu suất sản xuất tổng thể cũng bị ảnh hưởng. Chúng tôi đã thiết kế hệ thống chiếu tử ngoại dành cho wafer kích thước 300mm để khắc phục vấn đề này, giúp truyền nhiệt một cách đồng đều đến vị trí cần thiết.
Điều quan trọng nhất là gì? Chúng tôi sử dụng các bộ phát tia hồng ngoại tần số cao để truyền năng lượng một cách nhanh chóng và trực tiếp. Điều này giúp duy trì độ đồng đều về nhiệt độ trên toàn bề mặt wafer 300mm, với độ chính xác khoảng ±0,1°C. Hệ thống này cũng hoạt động ổn định trong nhiều chu kỳ liên tục. Nó cũng tương thích với các phòng sạch cấp độ 1–100, và hoạt động mà không tạo ra bất kỳ hạt bụi nào, giúp duy trì độ sạch của phòng.
Điều này rất quan trọng trong quy trình sản xuất wafer: nó giúp kiểm soát các bước xử lý nhạy cảm với nhiệt độ, như quá trình làm nóng mềm, làm nóng cứng và quá trình khử ẩm. Khi độ đồng đều về nhiệt độ được đảm bảo, việc kiểm soát kích thước của wafer cũng sẽ chính xác hơn, và số lượng khiếm khuyết cũng giảm đi. Phản ứng nhiệt diễn ra nhanh chóng, giúp rút ngắn thời gian xử lý.
Các bộ phát tia hồng ngoại này có thể hoạt động liên tục trong hơn 5.000 giờ, điều này giúp tránh những sự cố không mong muốn và giảm thời gian chi phí cho việc thay thế linh kiện.
Bạn cần lên kế hoạch như thế nào? Hệ thống này có thể được tích hợp vào quy trình sản xuất hiện có một cách dễ dàng. Tuy nhiên, nó vẫn cần nguồn điện và hệ thống làm mát riêng. Bạn cần chuẩn bị nguồn điện 240V, ba pha, cùng hệ thống làm mát bằng nước giàu kiềm để duy trì độ ổn định nhiệt độ trong quá trình hoạt động liên tục.
Kết quả là: quy trình sản xuất có thể được kiểm soát một cách chính xác, từng ngày một.