포토레지스트 제거용 지지 히터

리소그래피 공정에서는 포토레지스트 처리실의 온도 변동을 결코 용납할 수 없습니다. 온도 변동은 잔여 물질의 생성, 패턴 손상, 그리고 회복 불가능한 수율 저하를 초래합니다. 따라서 우리는 공정 온도를 일정하게 유지할 수 있도록 특별한 가열 장치를 만들었습니다. 이를...