请观看300毫米晶圆从旋涂机中取出的过程。光刻胶已经涂覆在晶圆上，接下来就需要进行烘烤处理。如果烘烤不均匀，不仅会损失一颗晶圆，还会影响整个光刻流程的效率。为此，我们设计了专门的300毫米晶圆红外加热系统，以确保热量能均匀地分布到晶圆的各个部位。
真正重要的是什么？ 我们使用短波红外发射器来实现快速、直接的能量传递。这样，整个300毫米晶圆表面的温度稳定性可以达到±0.1℃，而且这种稳定性可以持续保持多轮加工之后仍然不变。该系统兼容1级至100级的洁净室环境，且不会产生任何颗粒物，从而确保腔体始终处于清洁状态。
在光刻过程中，这一点非常重要：因为它能够确保那些对温度极为敏感的步骤——如软烘烤、硬烘烤和固化处理——能够顺利进行。当温度分布均匀时，晶圆的尺寸控制就能更加准确，缺陷也会减少。此外，由于热响应速度很快，因此加工时间也会缩短。
这些红外发射器设计为可连续工作5,000小时以上，这样就可以减少意外情况的发生，同时也能节省更换耗材的时间。
你需要做好哪些准备？ 该系统可以轻松集成到现有的生产流程中，但它需要独立的电源和冷却系统。建议使用240伏三相电源，同时搭配去离子水进行冷却，以保持系统的热稳定性。
其好处显而易见：可以实现稳定、可重复的生产流程。