光刻胶剥离辅助加热器

在光刻工艺中，光阻处理腔室内的温度波动是不可接受的。温度的不稳定会导致残留物形成、图案损坏，进而造成无法挽回的产量损失。因此，我们设计了专用的加热器，以精确控制处理温度，从而使化学反应能够正常进行，最终得到纯净的晶圆。 关键在于内部结构 该装置通过石英窗采用短波卤素加热方式，因此响应速度快，输出温...